光刻膠領域，我國取得新突破

2025-10-25 20:02:24

每經AI快訊，光刻技術是推動集成電路芯片制程工藝持續(xù)微縮的核心驅動力之一。近日，北京大學化學與分子工程學院彭海琳教授團隊及合作者通過冷凍電子斷層掃描技術，首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的微觀三維結構、界面分布與纏結行為，指導開發(fā)出可顯著減少光刻缺陷的產業(yè)化方案。相關論文近日刊發(fā)于《自然·通訊》。（科技日報）

責編張明雙

特別提醒：如果我們使用了您的圖片，請作者與本站聯(lián)系索取稿酬。如您不希望作品出現(xiàn)在本站，可聯(lián)系我們要求撤下您的作品。

上一篇文章

鄭智化吐槽“連滾帶爬進飛機” 深圳機場致歉

返回每經網首頁

下一篇文章

西安一保時捷行駛途中突然起火，車被燒成空架，“車輛未涉及碰撞”！專家：新能源車火災發(fā)生概率與燃油車相差不大，但強度更高